第65章 极限烧脑(2 / 3)

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  就好比光子双缝实验和光栅实验时,你没法从量子层面确定每一个光量子最后通过双缝射到哪儿,但只要光子够多,最后肯定会形成干涉条纹。
  量越大,宏观分布越符合概率规律,这是众所周知的。而量变小了之后,偶然性误差就会凸显。
  所以一旦单层厚度降低到微米级,你随便乱喷就会出现有的地方厚。有的地方薄、有的地方甚至完全没有覆盖到的情况,质量控制也就无从谈起。
  而这个问题,眼下如果没有顾辙亲自插手,其他同行几乎也是不可能解决的。
  顾辙对此却是早有准备。他为此把手下搞化学沉积法的金灿也带来了,还有好几个研究生,在顾辙的方向指点下,开始搞专门用于分别收集plga或者pva轻薄喷层的掩膜材料。
  正常的熔喷环节,对于接收成品的滚筒、凝结网帘,要求是很低的,只要滚筒或网帘的材料不会粘住要生产的热熔布料,而且内部足够通入冷却水、让热熔材料一喷到冷却筒表面就瞬间冷凝,就行了。
  而顾辙对现在所要用到的收集掩膜的要求,却额外加了两道:
  他需要确保收集疏水的plga喷层的掩膜,本身足够亲油疏水,一旦热熔plga喷过来的时候,能够用油性吸附力把原本“堆叠不平”的plga尽量拉平、摊平。
  同理,收集亲水的pva喷层的掩膜,则要反其道而行之,足够亲水疏油,用水性表面特性把“堆叠不平”的pva尽量拉平。
  这样一来,靠着搜集膜的特定材质,可以进一步把微厚熔喷的厚度误差,额外再拉平一个数量级。
  而且,因为单一熔喷层太薄,材料结构强度太低,在堆叠起来之前,这些单层材料是没法直接滚筒搜集起来的,得跟着掩膜一起卷起来。
  所以顾辙最后还得考虑掩膜如何回收的问题,最好的办法思路当然是“掩膜本身的熔点,最好比plga和pva还低得多。
  这样多层plga和pva和掩膜都叠到一起之后,可以稍稍加热、就在plga和pva不再次融化的情况下,单独把掩膜融化了,流出来回收掉,只留下plga和pva层叠的复合布”。
  类似于做千层酥的时候,一开始为了防止面饼层粘在一起,需要一层层抹酥油。但最后面层定型之后、进烤箱之前,却希望把中间的酥油层给去掉。(例子不太恰当,但也举不出更恰当的例子了)
  这么多弯弯绕绕的复杂科学思路混杂在一起,给没开上帝视角的普通地球人100个脑子,也难以单独把一系列问题想明白。
  要不是顾辙前世对化学沉积法钻研多年,也不至于如此举重若轻。
  顾辙把相关的“化学沉积掩膜”任务拆分、单独交给金灿和他带的那几个硕士研究生去做的时候,金灿看了这个实验设计,也是震惊得不行。
  他完全没想到,原来顾总对材料化学的理解,如此全面,连原本没怎么用过的“化学沉积法”,顾总的思路都那么清晰。
  “这个实验设计思路,您是怎么想到的?我读研六年,就钻研液相沉积法了,也涉猎过薄膜沉积法,但是对薄膜沉积的工业应用,也没有您那么深刻。”
  开始动手之前,金灿对顾辙是彻底折服了,原本他也只是一个挺爱钱的博士生,来顾辙这儿之前,还总想着“女朋友逼他早点买房”的事儿。
  但此时此刻,他是彻底心悦诚服,坚信跟着顾辙混,一年买房绝不是问题。以顾总的思路,这样研究下去,肯定是能出大成果的。
  虽然,他对于未来的大成果的其他至少七八成技术要点构成,还茫然无知。
  但窥一斑而见全豹,他只要看懂他自己专业的这一斑就够说明问题了。
  顾辙对于自己的知识来源,当然不用解释。
  后世石墨烯刚出来的时候,为了制备石墨烯,多少工程师和科学家不也盯上了“薄膜沉积法”,
  说白了就是希望避免“撕胶带”来量产石墨烯,而是希望直接给一个用于吸附石墨烯的薄膜,最好石墨烯能自发吸附在这个薄膜上,而且要不厚不薄刚刚好、每个暴露位置都只吸附一层碳原子厚度。
  一旦某个位置有碳原子落上去了,就不再会有第二层碳原子落到同一个点,这样才能确保出来的石墨是单层原子厚度,那才是石墨烯。
  顾辙后世连“如何在特定薄膜上只沉积一个原子厚度的石墨,和只沉积一个分子厚度的二硫化钼”,都非常精通。
  触类旁通之下,看看中科院纳米所相关论文、学会“如何用对应吸附薄膜,把plga和pva喷层吸附得尽量薄而均匀”,还不是轻轻松松?
  这里面的敬畏奥义,顾辙还用告诉你金灿么?不明白就乖乖虚心学习!边干边学! ↑返回顶部↑

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